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| 品牌 | JZ/精釗 | 價格區間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 管式爐 | 產地類別 | 國產 |
| 應用領域 | 電子/電池 |
PEVCD 系統爐是面向薄膜材料制備的中型滑動開啟式專用設備,擁有 1200℃、1500℃、1700℃多溫區規格,整套設備集成等離子射頻電源、三路質量流量混氣系統、開啟式管式爐及真空機組,可一站式完成氣相沉積實驗。設備爐體可左右滑動,搭配射頻電源同步位移,實現快速升降溫;300W 射頻電源可產生等離子增強效應,降低實驗溫度,通過頻率精準調控薄膜應力,工藝參數可調,可沉積 SiOx、SiNx、a?Si:H 等多種功能薄膜。溫控系統采用 50 段智能可編程 PID 控制,控溫精度 ±1℃;真空系統搭配雙旋片式機械泵,真空度可達 10?2torr;三路高精度混氣系統精準配比反應氣體。整機符合 CE、ISO9001 標準,核心部件品質可靠,是半導體、新能源、新材料領域薄膜制備的核心實驗設備。

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