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PEVCD管式爐系統

簡要描述:PEVCD管式爐系統為中型滑動開啟式設備,適配 1200?1700℃工藝。集成等離子射頻電源、三路混氣系統與真空組件,爐體可滑動實現快速升降溫??烧{控薄膜應力與化學計量比,沉積 SiOx、SiNx 等材料,廣泛用于薄膜材料研發實驗,性能穩定、集成度高

  • 更新時間:2026-05-21
  • 瀏覽次數:154
  • 產品地址:上海市青浦區華新鎮嘉松中路518號A205
  • 產品分類:管式爐

詳細介紹

品牌JZ/精釗價格區間5萬-10萬
儀器種類管式爐產地類別國產
應用領域電子/電池


PEVCD 系統爐是面向薄膜材料制備的中型滑動開啟式專用設備,擁有 1200℃、1500℃、1700℃多溫區規格,整套設備集成等離子射頻電源、三路質量流量混氣系統、開啟式管式爐及真空機組,可一站式完成氣相沉積實驗。設備爐體可左右滑動,搭配射頻電源同步位移,實現快速升降溫;300W 射頻電源可產生等離子增強效應,降低實驗溫度,通過頻率精準調控薄膜應力,工藝參數可調,可沉積 SiOx、SiNx、a?Si:H 等多種功能薄膜。溫控系統采用 50 段智能可編程 PID 控制,控溫精度 ±1℃;真空系統搭配雙旋片式機械泵,真空度可達 10?2torr;三路高精度混氣系統精準配比反應氣體。整機符合 CE、ISO9001 標準,核心部件品質可靠,是半導體、新能源、新材料領域薄膜制備的核心實驗設備。

PEVCD管式爐系統












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